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Atonarp推出创新计量平台Aston
作者:网站采编关键词:
摘要：日本东京 2021 年 7 月 15 日-- 半导体、医疗保健和制药行业分子传感和诊断产品的领先制造商 Atonarp 今天宣布推出 Aston，这是一个创新的原位半导体计量平台，集成了等离子体离子源。
日本东京 2021 年 7 月 15 日-- 半导体、医疗保健和制药行业分子传感和诊断产品的领先制造商 Atonarp 今天宣布推出 Aston，这是一个创新的原位半导体计量平台，集成了等离子体离子源。
Atonarp 的阿斯顿是一个创新的原创 它是一个集成等离子体离子源的半导体测量平台。
Ascon 是半导体生产工艺计量领域的重大进步，能够实现原位分子工艺控制并帮助现有晶圆厂更高效地进行地面操作，从而促进产量的增加。 Ascon 是一个强大的半导体生产平台，从头开始构建，可以取代各种传统工具，并在一系列应用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、电介质和导体蚀刻和沉积、腔室清洁、空腔房间匹配和气体减少。
“通过Aston，我们已经看到在某些应用中单位制程吞吐量增加了40%以上。这是一个重大改进。即使晶圆厂的总产量增加1%，也可以Atonarp 创始人兼首席技术官 Prakash Murthy 说，一个典型的晶圆厂每年增加价值数千万美元的产量。
“如果阿斯顿是在现有的生产工艺工具上组装的，那么只有六个到 8 周内可以带来更高的产量。相比之下，安装新的生产设备需要长达一年的时间，”Murthy 补充道。 “这将极大地帮助制造商提高生产水平，并帮助解决目前半导体产能短缺的问题。”
快速运营端点检测 (EPD) 是运行半导体工具和晶圆厂的最有效方式。到目前为止，EPD 还无法在许多工艺步骤中部署，因为所需的原位传感器不能承受苛刻的工艺或腔室清洁化学品，否则它们会被冷凝物沉积物堵塞。从历史上看，晶圆厂被迫在固定时间进行清洁，以确保该过程按时完成。相反，阿斯顿通过在过程完成时执行准确的检查（包括腔室清洁）来优化生产，将所需的清洁时间减少多达 80%。
阿斯顿耐腐蚀性气体和汽化冷凝水。它比现有解决方案更强大，使用独立的双离子源（包括传统的电子轰击离子源和无灯丝等离子体发生器），并且可以在半导体生产中遇到的恶劣条件下可靠运行。这使得 Aston 可以原位用于恶劣的环境中。在这种环境下，传统的电子离子发生器会腐蚀并很快失效。
与传统质量分析仪相比，使用Aston的维护间隔长达100次。它包括一个自清洁功能，以消除由于某些过程中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积聚。
由于 Aston 自己产生等离子体，因此在工作时可以选择工艺等离子体。这比发射光谱技术有明显的优势，因为后者需要等离子体源才能工作，这使得阿斯顿成为原子层沉积（ALD），有些可能使用弱等离子体、脉冲等离子体或无等离子体。非常适合处理金属沉积工艺。
Ascon 还通过提供定量的、可操作的实时数据来提高流程一致性，并通过人工智能 (AI) 提升强大的机器学习能力，以满足最苛刻的流程应用。此外，由于实时数据统计分析和工艺室管理的高精度、高灵敏度和可重复性，这进一步改进了生产线并提高了产品良率。
Ascon主要用于化学气相沉积（CVD）和蚀刻应用，这两个应用的年增长率都在13%以上。该光谱仪可以在新工艺室的组装过程中安装，也可以改装到已经运行的现有室中。
Ascon 还可与 ATI Korea 开发的智能压力控制器 Psi 配合使用。经过几个月的全面可行性评估，三星最近购买了这种组合解决方案，用于高级过程控制应用。
Aston 现已开放评估和订购，可直接购买或通过 Atonarp 的全球合作伙伴网络购买。
文章来源：《中国计量大学学报》 网址: http://www.zgjldxxbzz.cn/zonghexinwen/2021/0720/582.html